捷克布爾諾2025年11月14日 /美通社/ -- Tescan 以下一代飛秒雷射平臺 FemtoChisel 擴展其半導體設備產品組合。此平臺專為提升半導體樣品制備工作流程而設計,兼具高速、精準、可重現性與高品質。
FemtoChisel 專為半導體研究與故障分析環境打造,在半導體領域中,產出速度與可適應性同等重要。藉由奈米等級的精度與優異的高生產速度所結合的智慧雷射加工,FemtoChisel 能夠產生極為潔凈的表面,同時大幅降低后續 FIB 拋光步驟的需求,讓針對現今與未來半導體材料的研究與失效分析得以更快速完成。
"半導體研究與故障分析團隊持續面臨壓力,需要針對半導體堆疊中的任一材料層提供,更快、更可靠地分析結果。透過 FemtoChisel,我們在 Tescan 的半導體大體積工作流程(Large Volume Workflow for Semiconductors)中回應了這項挑戰。" Tescan 首席營收長(Chief Revenue Officer)Sirine Assaf 表示。"這不只是一臺新儀器 – 它是工作流程的加速賦能者。藉由結合飛秒雷射的精度與智慧自適應式雷射處理流程,我們協助實驗室加速樣品制備、降低重工,并為日益復雜的產品結構帶來絕佳的清晰度。"
FemtoChisel 的工作流程優勢包括
Tescan 對整合式工作流程的承諾,亦因收購 FemtoInnovations 后成立的 雷射技術事業單位(Laser Technology Business Unit) 而進一步強化。此專責團隊將持續在半導體產業推進雷射輔助樣品制備技術的創新。