新加坡2025年9月24日 /美通社/ -- 前沿半導體光學公司MetaOptics Ltd（新加坡交易所凱利板上市代碼：9MT）已在位于臺灣桃園的品頡奈米光學股份有限公司(Pin-Jye Nano Technologies Co., Ltd.)部署其直寫式激光光刻系統(tǒng)。此次安裝使超透鏡的原型機設計與制造更貼近該地區(qū)的半導體供應鏈，標志著MetaOptics全球擴張邁出了重要一步。

通過構建本地開發(fā)能力，MetaOptics將會助力合作伙伴更快地進行產品迭代，并更高效地將概念轉化為產品。桃園基地還將成為擴大生產與開展合作的跳板。MetaOptics計劃增設直寫式激光光刻設備和自動測試儀，以提升產能，滿足日益增長的超透鏡市場需求。作為這些努力的一部分，MetaOptics正在針對共封裝光學(CPO)開發(fā)超透鏡解決方案，并已展示出達到150納米及以下精度的納米制造能力。CPO現(xiàn)在是一項強大的新興技術，通過將數(shù)據(jù)傳輸介質從銅纜轉向光傳輸，有望為人工智能(AI)基礎設施帶來革命性變革。MetaOptics的超透鏡陣列使光學接收器和收發(fā)器比傳統(tǒng)微光學器件更小巧，從而構建出更緊湊、可擴展性更強的系統(tǒng)。

MetaOptics Ltd執(zhí)行主席兼首席執(zhí)行官程章金(Mark Thng)表示:"臺灣地處全球半導體產業(yè)的核心地帶。此次部署讓我們更貼近我們的合作伙伴，使我們能夠以更快的交付周期、更優(yōu)的集成方案以及可擴展的發(fā)展路徑，為他們提供支持。"

除了擴大在臺灣的超透鏡產能外，MetaOptics還在探索進軍美國市場，以便更好地服務核心客戶。為了支撐這一發(fā)展布局，MetaOptics已提前鎖定長交期關鍵零部件，以確保能夠更快地復制其直寫式激光光刻設備。MetaOptics的直寫式激光光刻設備可以實現(xiàn)最小90納米的線寬精度，其工藝水準遠超同類競爭系統(tǒng)。

展望未來，MetaOptics將與主要半導體原始設備制造商(OEM)合作，打算進一步升級其直寫式激光光刻技術，以實現(xiàn)12英寸晶圓尺寸的加工，并支持多透鏡同步寫入功能。這種無掩模工藝與多透鏡寫入技術相結合，預計將顯著提升產能，并為規(guī)模化生產開創(chuàng)全新機遇。

這些努力是MetaOptics愿景的重要組成部分，旨在通過簡化超透鏡的設計、測試及現(xiàn)實世界商業(yè)化流程，推動該技術更廣泛地普及應用。隨著直寫式激光光刻設備的交付，MetaOptics預計2025財年的營收將顯著高于2024財年。

MetaOptics Ltd簡介

MetaOptics Ltd（凱利板上市代碼：9MT）是一家前沿半導體光學企業(yè)，專注于開發(fā)基于玻璃材質的超透鏡解決方案，并利用由AI驅動的圖像處理技術予以加強。該公司采用先進的光學設計及可擴展的12英寸深紫外(DUV)光刻工藝，為共封裝光學、移動設備、增強現(xiàn)實/虛擬現(xiàn)實(AR/VR)、汽車電子及其他新興市場提供下一代應用支持。MetaOptics總部位于新加坡，致力于以當今最具創(chuàng)新力的科技品牌所要求的可靠性與可擴展性，交付高性能光學產品。垂詢銷售情況，請發(fā)送郵件至sales@metaoptics.sg。

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